从碱性NH4OH/NH4Cl缓冲溶液中电沉积镍(英文)

作者：Piotr M.SKITA; Przemysaw T.SANECKI; Dorota SALETNIK; Jan KALEMBKIEWICZ

来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2019, 29(01): 222-232.

• 镍
• 钴
• 电沉积
• 氨缓冲溶液

采用循环伏安、计时电势、计时电流以及光学数码显微镜、辉光放电光谱(GD-OES)、X射线荧光光谱分析(XRF)、扫描电镜能谱(SEM-EDS)等技术,研究碱性NH4OH/NH4Cl缓冲溶液中镍在钢和铜上的电沉积,目的是从弱碱性溶液中获得镍镀层,并优化工艺过程。以镍镀层质量为指标,对电解液组成、pH、温度、电流、电势等工艺参数进行优化。讨论析氢在电沉积过程中的作用,并研究Co作为添加剂的影响。发现少量的Co可以催化Ni沉积过程、改善镀层的质量和颜色。因此,在可能的应用中,应认真考虑Ni/Co共沉积。研究还表明,对于恒电流沉积模式,镀层的质量与极化电势区间的宽度有关,此电势区间宽度由计时电势曲线E=f(t)在沉积过程刚开始时的部分确定。