Al_2O_3与LaF_3薄膜在紫外波段的特性研究

作者：蔡文浪; 章岳光; 刘旭; 王颖

来源：浙江大学学报(工学版), 2009, (03): 555-558.

DOI：10.3785/j.issn.1008-973X.2009.03.030

• 光学薄膜
• Al2O3
• LaF3
• 沉积速率
• 基板温度 optical thin film
• deposition rate
• substrate temperature

用电子束蒸发方法制造了Al2O3、LaF3单层膜,对比研究了沉积速率和基板温度对薄膜紫外(193 nm)光学特性、微结构的影响.实验结果表明,LaF3在紫外波段的光学损耗明显小于Al2O3.AFM测试发现,在相同的工艺条件下,Al2O3表面粗糙度大于LaF3,且LaF3薄膜表面粗糙度随基板温度增加而增加.Al2O3薄膜在紫外波段的光学特性严重依赖于沉积速率等制备条件,而沉积速率对LaF3薄膜特性的影响不明显,即使是在5 nm/s的速率条件下,LaF3仍具有良好的光学特性.X射线衍射(XRD)测试发现,电子束蒸发制备的Al2O3薄膜为非晶态,LaF3薄膜有结晶现象.

• 单位
  浙江大学; 现代光学仪器国家重点实验室