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摘要
本发明涉及一种具有冷壁分时分步输运功能的多雾化源Mist-CVD设备,Mist-CVD设备包括：多个雾化腔室,每个所述雾化腔室设置有用于进行雾化或者承载第一气体的雾化源空腔；每个所述雾化腔室上均设置有连通所述雾化源空腔的第一载气入口,所述第一载气入口可用于通入第二气体；混气腔室,所有所述雾化腔室均可独立通断的连接至所述混气腔室,所述雾化腔室设置有用于使雾化气体混合均匀的混气空腔；反应腔室,所述混气腔室连通所述反应腔室,所述反应腔室设置有接收所述雾化气体、以用于反应生长的反应空腔。本发明的Mist-CVD设备在可以实现多掺杂源的同时,还能兼容液体源和/或气体源的同时使用。
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