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摘要
提出一种基于磁控溅射镀膜技术制备高性能磁性吸收剂的方法,通过预涂一层可溶性有机薄膜在基底上,继而溅射一层磁性薄膜及SiO2介质层,后在溶剂中超声获得具有大宽厚比的片形吸收剂。该吸收剂由于其高达80的宽厚比而具备大的磁导率;而磁性薄膜之上覆盖一层SiO2介质层则显著降低了介电,提高了阻抗匹配性。在吸收剂体积分数仅10%、厚度1.6 mm时,反射率(RL)<-5 dB及<-10 dB的带宽分别达到了7.8 GHz(4.2～12 GHz)和7 GHz(10～17 GHz)。这说明该工艺可以用于制备高性能片形吸收剂,并在轻质高效吸波材料方面有很大应用潜力。
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单位材料复合新技术国家重点实验室; 武汉理工大学
