掺硼多晶金刚石膜的电化学性能研究

作者：李春燕; 潘凯; 吕宪义; 李明吉; 刘兆阅; 白玉白; 李博; 金曾孙

来源：高等学校化学学报, 2006, (11): 2136-2139.

• 掺硼金刚石膜
• 电化学电极
• 循环伏安法
• 生物制剂检测 Boron-doped diamond film
• Electrochemical electrodes
• Cyclic voltammetry
• Biopreparate detection

采用EACVD(E lectron Assisted Chem ical Vapor Deposition)方法制备了掺硼金刚石膜,并用扫描电镜、拉曼光谱及霍尔效应等测试方法对其表面形貌、生长特性、载流子浓度以及导电性能进行了分析.测试结果表明,掺硼金刚石膜是由微米级晶粒组成的多晶膜,其载流子浓度为4.88×1020cm-3,电阻率为0.03Ω.cm,是高品质金刚石膜.用该金刚石膜制作电化学电极,利用循环伏安法分别测量了金刚石膜电极在氯化钾空白底液、亚铁氰化钾溶液和左旋半胱氨酸溶液中的循环伏安曲线,发现该金刚石膜电极在水溶液中具有宽的电化学窗口(约为3.7 V)和接近零的背景电流,在生物制剂的...

• 单位
  吉林大学; 超硬材料国家重点实验室