磁控溅射法制备氧化钨薄膜的膜层微观结构对电致变色性能的影响

作者：初文静; 张喜强; 施瑕玉; 郑友伟; 林俊良; 陈明亿; 林金锡; 林金汉; 袁宁一

来源：激光与光电子学进展, 2017, 54(11): 456-463.

• 薄膜
• 微观结构
• 氧化钨
• 电致变色性能

利用磁控溅射法,在不同工作压强下制备了氧化钨(WO3)薄膜,研究了工作压强对WO3膜层微观结构的调控作用,并研究了WO3膜层微观结构对其电致变色性能的影响。研究结果表明,制备的WO3薄膜属于非晶相,表面呈峰状结构;随着工作压强的增大,WO3薄膜膜层微观结构变疏松,电致变色响应时间和循环寿命均减短;在最佳膜层微观结构下,WO3薄膜光学密度可达0.64,循环寿命达1500周。

• 单位
  常州亚玛顿股份有限公司; 常州大学