摘要
菜用大豆厚度是划分菜用大豆等级的重要衡量指标之一。采用高光谱图像技术对菜用大豆的厚度进行预测。实验中选取200个菜用大豆作为测试样本,获取其高光谱反射图像,同时用数字式游标卡尺测量厚度值。选取400~1 000 nm范围的光谱信息,采用多元散射校正、标准归一化和导数计算对光谱数据预处理,结合偏最小二乘和多元线性回归两种分析方法建立厚度校正模型和预测模型。研究发现基于多元散射校正的偏最小二乘方法的模型精度较优,校正模型和预测模型的相关系数分别为0.956和0.933,均方根误差分别为0.59 mm和0.70 mm。研究结果表明可以利用高光谱图像技术预测菜用大豆厚度。
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单位食品科学与技术国家重点实验室; 江南大学