带沟槽结构的平板流动中的熵产分析

作者:刘梅; 李曙光; 吴正人*; 王松岭; 邓宇涵
来源:计算物理, 2020, 37(02): 182-188.
DOI:10.19596/j.cnki.1001-246x.8021

摘要

基于大涡模拟,采用Fluent软件对带沟槽结构的平板流动过程进行熵产分析,探究沟槽结构引起的熵产变化规律.结果表明:沟槽结构能减少流动过程中的熵产,在30 m·s-1时(Re≈20 000),近壁区总熵产减少约25%, 40 m·s-1时(Re≈27 000)减少约19%,但其结构对后续流动没有持续性影响,且随着法向高度的增加,影响逐渐变小;熵产在沟槽顶端部分的数值远大于其他区域,湍流作用引起的熵产起主要作用.所得结论为优化沟槽结构减阻提供了理论依据.