微测辐射热计焦平面阵列非均匀性及片上校正电路的研究

作者：冷余平; 吕坚; 周云; 王璐霞; 蒋亚东

来源：红外, 2010, (12): 7-11.

• 微测辐射热计
• 建模
• 非均匀性
• 片上校正
• 焦平面阵列 microbolometer
• modeling
• non-uniformity
• on-chip correction
• FPA

非均匀性研究对于无温度稳定装置的微测辐射热计焦平面阵列极其重要。通过建立模型研究了各种因素对焦平面非均匀性的影响。在此基础上,提出了一种新的片上校正电路结构及其校正因子的计算方法,并采用为各像元提供不同暗电流的方法对输出非均匀性进行了校正。最后使用该结构模型进行了模拟仿真。结果显示,经过7位片上校正后,输出最大偏移从输出摆幅的49.7%降到了0.8%,输出均匀性得到了很大提高。

• 单位
  电子薄膜与集成器件国家重点实验室; 电子科技大学