表面形貌对GaAs生长速率测量的影响

作者:江玉琪; 张丹懿; 王一; 丁召; 郭祥*
来源:原子与分子物理学报, 2023, 40(02): 159-163.
DOI:10.19855/j.1000-0364.2023.026005

摘要

本文利用Reflection High Energy Electron Diffraction (RHEED)强度振荡测量GaAs同质外延生长,发现其生长速率随生长厚度按一定指数函数关系衰减.这种衰减与GaAs表面形貌的变化密切相关,表面台阶数量的增加使层状生长模式由2D成核模式逐渐转变为台阶流模式.由于RHEED强度振荡所测的生长速率与表面的粗糙程度密切相关,表面情况改变对生长速率会有一定的影响,导致测量的生长速率逐渐的衰减.根据生长速率随生长厚度的增加而衰减的拟合曲线,可以获得一个准确的生长速率.

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