一种制备铜铟镓硒薄膜的等离子体协助硒化工艺及装置

作者：罗派峰; 任宇航; 黄治

来源：2012-05-09, 中国, CN201110406154.7.

本发明公开了一种制备铜铟镓硒薄膜的等离子体协助硒化工艺及装置，采用热蒸发Se结合PECVD装置作为独立的等离子体气源系统，同时搭配加热源采用电阻丝加热或卤光灯光照加热的硒化炉对铜铟镓硒前驱体薄膜进行硒化，等离子体气源系统和硒化炉结合部采用热丝管连接以保持等离子体反应活性。