功率器件用n/p型4H-SiC同时形成欧姆接触工艺

作者:夏经华; 桑玲; 杨香; 郑柳; 查祎英; 田亮; 田丽欣; 张文婷; 杨霏; 吴军民
来源:微纳电子技术, 2020, 57(07): 568-576.
DOI:10.13250/j.cnki.wndz.2020.07.010

摘要

综述了在n/p型4H-SiC上同时形成欧姆接触技术的研究进展,包括欧姆接触理论、欧姆接触工艺及其优缺点以及热稳定性/可靠性等方面。重点介绍了基于Ni基金属的n/p型4H-SiC同时形成欧姆接触的工艺,包括以金属Ni为基础并结合Ti和Al与W等金属所形成的各种复合接触材料、通过合适的合金化退火工艺后得到的合金相、形成欧姆接触后得到的比接触电阻率,讨论了可能的欧姆接触形成机理,评估了其热稳定性/可靠性。讨论了在工艺上增加保护层对Ni基n/p型4H-SiC欧姆接触的性能以及热稳定性/可靠性等性能的影响。最后,评估了该工艺的研发现状和存在的问题,并提出未来的展望。