大视场投影光刻物镜的研究

作者：高波; 庄华洁; 马涛; 沈亦兵

来源：光学仪器, 2005, 27(05): 58-61.

DOI：10.3969/j.issn.1005-5630.2005.05.013

• 大视场
• 光刻物镜
• 分辨力
• 畸变 large field
• lithography lenses
• resolution
• distortion

大视场投影光刻物镜是光学系统中的一种特殊的形式,其设计加工要求高。针对研制的8英寸视场的投影光刻物镜,从光学设计要求出发,分析了影响光学系统成像质量的各种主要误差因素,通过ZEMAX模拟,确定了加工容差,并对其加工和装校过程做了阐述,对研制完成的物镜检验了其曝光分辨力和畸变特性,达到了系统设计的指标要求。

• 单位
  浙江大学; 现代光学仪器国家重点实验室