印制电路板棕化工艺优化及其性能

作者:罗莉; 陈世金; 张胜涛; 强玉杰; 唐明星; 高箐遥; 郭茂桂
来源:电镀与涂饰, 2017, 36(16): 874-880.
DOI:10.19289/j.1004-227x.2017.16.007

摘要

运用单纯形优化法对铜箔棕化处理的配方和工艺条件进行动态寻优,得到最优组合为:内层键合剂2540 mL/L,浓硫酸5560 mL/L,双氧水3550 mL/L,温度3045℃,时间5060s。在最优条件下棕化处理的铜箔与树脂的剥离强度达0.74 kg/cm,经100个冷热冲击循环、6次高温浸锡和6次无铅回流焊后均无分层、爆板现象。棕化后的铜箔表面形成了微观均匀的蜂窝状孔隙结构,剥离时分层发生于有机铜氧化膜与铜基板的界面处。

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