摘要
本发明提供了一种用于超导带材微观结构置样分析方法,包括:步骤1:用金属层对超导带材进行封装;步骤2:分离预设长度的封装在超导带材两侧的金属层;步骤3:固定超导带材和靠近超导层一侧的金属层,分离靠近所述超导带材基带层一侧的金属层;步骤4:从所述超导带材上分离所述超导带材的超导层和缓冲层;步骤5:对分离出的所述组合层的超导层或缓冲层进行置样;步骤6:用检测设备对置样的所述超导层或缓冲层进行观测。与现有技术相比,本发明经过解刨,各个膜层结构保存完好,有利于后期的分析。
-
单位上海超导科技股份有限公司