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摘要
<正>闪烁材料作为光学和能量转换材料在高能射线探测和成像领域得到了广泛的应用。多年来，国内外研究学者一直致力于研发高性能的新型闪烁体。其中，(Ce, Gd)3(Ga, Al)5O12(Ce:GGAG)被认为是最有前途的新一代 X 射线 CT 探测用候选材料之一[1]，在晶体生长、透明陶瓷制备以及组分调控等方面已经开展了大量研究工作[2-4]。
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单位高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室; 中国科学院上海硅酸盐研究所
<正>闪烁材料作为光学和能量转换材料在高能射线探测和成像领域得到了广泛的应用。多年来，国内外研究学者一直致力于研发高性能的新型闪烁体。其中，(Ce, Gd)3(Ga, Al)5O12(Ce:GGAG)被认为是最有前途的新一代 X 射线 CT 探测用候选材料之一[1]，在晶体生长、透明陶瓷制备以及组分调控等方面已经开展了大量研究工作[2-4]。
