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摘要
针对双线结构光蒙皮对缝测量系统对光平面高精度标定的需求，提出一种基于二维靶标的双线结构光平面标定方法。首先以靶标平面上的基准点为输入，构建靶标平面位姿解算模型，获取其在相机坐标系下的平面方程；然后依据相机的线面模型，对拟合控制点进行深度重建；最后使用特征值法对去噪后的拟合控制点集进行拟合，完成双线结构光平面标定。试验表明，该方法能够同时完成测量系统中两个光平面的标定；标定后系统的对缝间隙重复测量精度优于0.050 mm，对缝阶差重复测量精度优于0.030 mm。
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单位中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所; 南京航空航天大学
