摘要
本文采用中频反应磁控溅射方法在玻璃表面制备了TiO2薄膜,为使反应溅射的工作点能够稳定在"过渡区",得到较高的薄膜沉积速率,使用了等离子体发射光谱监控法(Plasma Emission Monitor,PEM)对溅射过程进行控制。利用台阶仪测膜厚,用X射线衍射(XRD)和透射率光谱扫描等测试方法对薄膜的特性进行表征。对制得的薄膜进行了光照试验,研究了温度、PEM工作点等不同工艺条件对薄膜亲水性的影响。薄膜经过1 h左右的紫外光照射,得到了很好的亲水性效果,其表面的水接触角达到了小于1°的水平。将薄膜经过光照后再置于黑暗中一段时间,如此循环了5次,仍具有很好的光致亲水效果,证明此过程是可以循环重...
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