液相外延碲镉汞中砷离子注入与激活表征研究

作者:卢致超; 林春*; 王溪; 李珣; 孙权志
来源:半导体光电, 2023, 44(04): 568-572.
DOI:10.16818/j.issn1001-5868.2023030601

摘要

As在HgCdTe材料中具有较小的扩散系数,可以形成较为稳定的结构,广泛应用于HgCdTe的p型掺杂。在p-on-n型碲镉汞红外探测器的制备中As掺杂是重要的制备方法。针对在制备过程中存在无法精确测量As激活率的问题,提出采用低温弱p型退火辅助差分霍尔测试的方法,获得了载流子浓度分布,从而通过与SIMS测试结果对比得到长、中波液相外延HgCdTe样品中As的激活率,并分析了退火等工艺对As掺杂后激活率的影响。

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