随着半导体技术的发展，对半导体照明光源要求越来越高，对光功率和光斑大小要求也越来越高，以满足实际应用需要。为了提高光刻质量和效率，采用大功率LED作为照明光源是目前半导体照明发展的主要趋势。文章对半导体照明光源及光刻工艺中的光束质量进行简要介绍，分析了半导体照明光源的工作原理和主要参数，结合光刻机对LED光源的要求，对光刻机中LED光源稳定技术进行了分析。
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