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摘要
本发明公开了一种浮空Y形栅的制备方法,包括：选取势垒层；在所述势垒层上形成夹层结构,其中,所述夹层结构自下而上依次包括第一光刻胶层、第二光刻胶层和金属层；光刻所述夹层结构后形成第一结构；对所述第一结构进行显影后形成具有T形凹槽的T形凹槽结构；刻蚀所述T形凹槽结构后形成具有Y形凹槽的Y形结构；在所述Y形结构的表面淀积栅金属层后形成第二结构；对所述第二结构进行剥离后形成浮空Y形栅。本发明采用一次曝光一次显影,其制备过程简单,且所述金属层形成undercut结构,避免在剥离时栅金属层脱落,所述金属层还可以释放电子束光刻中剩余的电荷,对曝光的图形不影响,从而形成规整的浮空Y形栅。
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