反应烧结法制备高强度多孔氮化硅陶瓷

作者：姚冬旭; 曾宇平

来源：无机材料学报, 2011, 26(04): 422-426.

• 反应烧结
• 多孔氮化硅
• 强度
• 气孔率 nitridation
• porous silicon nitride
• flexural strength
• porosity

以硅粉(Si)为起始原料,氧化钇(Y2O3)为烧结助剂,利用干压成型工艺制备出不同气孔率的多孔硅坯体,通过反应烧结得到高强度多孔氮化硅(Si3N4)陶瓷.研究了Y2O3添加量在不同升温制度下对于氮化率的影响,以及1500~1750℃后烧结对多孔材料强度的影响.结果表明:添加9%Y2O3的样品具有较高的氮化率,主要是Y2O3与Si粉表面的SiO2在较低的温度下反应生成了Y5Si3O12N.在不同的反应条件下可得到气孔率为30%~50%,强度为160~50MPa的样品.在1750、0.5MPa N2气压下对样品进行后处理,α-Si3N4完全转变成柱状β-Si3N4,晶型转变有利于强度提高,气孔率为...

• 单位
  中国科学院上海硅酸盐研究所; 中国科学院研究生院