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摘要
采用常压化学气相沉积法(APCVD)在退役25Cr35Ni乙烯裂解炉管内表面制备了SiO_2/S涂层,分别研究了表面涂层与裂解原料中添加结焦抑制剂的抗结焦性能;并对表面涂层与结焦抑制剂的联合结焦抑制性能进行研究。利用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)和Raman光谱对SiO_2/S涂层形貌、成分和结构进行分析,对焦层形貌进行表征。结果表明:SiO_2/S涂层粒子结合紧密,粒径为6～10μm,涂层厚度约为7μm;涂层由Si—O—Si三节环结构和非晶态的Si—O—S结构构成;炉管内表面经过涂层处理后,结焦抑制率为65.07%;裂解反应原料中加入结焦抑制剂的质量分数为200μg/g时,...
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