Mo/Cu TES超导性能表征

作者:张宏俊; 文继; 莫钊洪; 王新明; 熊忠华; 帅茂兵*
来源:核电子学与探测技术, 2020, 40(01): 33-38.

摘要

为了制备满足超高分辨率射线探测要求的超导转变边界探测器,对制备的Mo薄膜和Mo/Cu薄膜表征了其超导电学特性。结果表明,制备的Mo薄膜具有较好的超导性能,Mo/Cu薄膜的ΔT达到了2.1 mK@352 mK,α值达到了335。在1 mA的电流下,该α值可以满足超高分辨射线探测的要求。