金属氧化物TFT工艺中铜/钛蚀刻液浓度控制体系研究

作者：赵辉^*

来源：光电子技术, 2023, 43(01): 48-52.

DOI：10.19453/j.cnki.1005-488x.2023.01.008

• 金属氧化物
• 湿法刻蚀
• 铜/钛刻蚀液
• 浓度控制

深入分析了铜钛刻蚀液的刻蚀机理，并对刻蚀液浓度的变化进行实验分析。在此基础上，通过实验完成了铜钛刻蚀液浓度变化模型曲线的研发，并提出了进行浓度控制的方法，实现了铜钛刻蚀液的稳定应用并极大地提高刻蚀液的使用寿命。研究为相关领域的生产和研发提供了一定的参考。