氯离子对ChCl-Urea低共熔溶剂中银电沉积的电化学行为影响

作者：战充波; 张润佳; 付旭; 孙海静; 周欣; 王保杰; 孙杰^*

来源：电化学(中英文), 2022, 28(05): 71-78.

DOI：10.13208/j.electrochem.211115

• 氯化胆碱-尿素低共熔溶剂
• 银电沉积
• 添加剂
• 络合物
• 电化学行为

以氯化胆碱-尿素低共熔溶剂为基础液，使用循环伏安法、计时电流法、Tafel极化曲线、Gerisher交换电流密度法、扫描电子显微镜以及X射线衍射等方法研究了电沉积银过程中的电沉积机理、电结晶行为，以及NH4Cl存在下对配合物、相组成以及镀层微观形貌等的影响。结果表明，ChCl-Urea体系中氯离子的加入改变了Ag+的还原电位(vs.Ag|AgCl)，镀液中Ag+形成了配合物[AgCln]1-n，使还原电位发生了负移，由-0.85 V负移至-0.98 V。通过拟合CA曲线和理论曲线对比发现，Ag(I)在ChCl-Urea DES中的成核方式与氯离子的浓度有关，低浓度下的成核方式具有三维瞬时成核和三维连续成核的混合成核特征，高浓度下的成核方式符合三维瞬时成核。镀液中主要放电络离子是[AgCl2]-。电沉积得到的是紧密颗粒球状纯银镀层，氯离子的加入抑制了枝晶状银镀层的生成。

• 单位
  沈阳理工大学; 环境与化学工程学院