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摘要
采用浸渍-沉积方法在电沉积的多孔Cu薄膜上修饰一层纳米SnO_2,经低温热氧化处理制备出多孔Cu_2O/SnO_2复合多层薄膜。运用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X-射线粉末衍射仪(XRD)、紫外可见漫反射光谱(UV-vis DRS)和荧光光谱(FS)技术表征了薄膜的结构、形貌和光学性质。测试了薄膜在可见光下降解罗丹明B(RhB)的性能。结果表明,在30℃的0.2 mol/L CuSO_4 1.5 mol/L H_2SO_4镀液中,以1.5 A/cm~2电流沉积20 s得到的多孔Cu薄膜,在SnO_2溶胶中浸渍10 s并重复5次,再经空气气氛下100℃焙烧30 min,制...
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