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摘要
以氧化铟锡(ITO)玻璃为基底，采用直流反应磁控溅射法在室温环境下制备了高透过率调制的NiOx薄膜，利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子电镜(SEM)、紫外可见分光光度计(UV 3600)对薄膜进行分析和表征，研究溅射过程中氩氧比、气压、功率对薄膜结构、形貌及电致变色性能的影响。结果表明：制备的NiOx薄膜表面有明显的结晶颗粒及孔隙，并沿(200)晶面择优生长；随着气压、功率、氧分压的增大，透过率调制先增大后减小，在时间为45 min、溅射气压4.9 Pa、氩氧比113∶7、功率215 W时最高可达58.3%，着褪色响应时间分别为9和19s，相应的着褪色效率分别为77.56和40.39 cm2/C；以最优工艺的NiOx薄膜组装了结构为Glass/ITO/NiOx/Li-electrolyte/WO3/ITO/Glass的电致变色器件，器件在550 nm处的光调制幅度为46.5%，着褪色时间分别为27和45 s，相应的着褪色速率为1.5和0.9%/s，在循环500次后透过率调制保持在40%以上。
- 单位
