一种光辅助电化学刻蚀装置

作者:王连卫; 彭波波; 经雨珠; 祝珊珊; 王斐; 王振
来源:2012-07-04, 中国, ZL201120406111.4.

摘要

本实用新型公开了一种光辅助电化学刻蚀装置,包括:盛装氢氟酸溶液的反应槽和盛饱和食盐水的导电液槽;在反应槽中插入与直流电源电连接的网状铂金电极负极,在导电液槽中插入的与直流电源电连接的网状铂金电极正极;导电液槽和反应槽之间插放有四英寸硅片;在导电液槽内放置有红外光方向向硅片的红外LED阵列装置;反应槽的下方中间位置设置有磁力搅拌器,反应槽内的底部与磁力搅拌器相对应的位置放置搅拌子。本实用新型的刻蚀装置采用包含有磁力搅拌和红外LED阵列装置的双槽光辅助电化学刻蚀装置,可以降低功率,光照均匀,而且无需温控系统,反应液搅拌均匀,可广泛应用于大规模生产。