氩气对高功率MPCVD制备金刚石膜的影响

作者:王蒙; 翁俊; 刘繁; 黎振坤; 鲁振海
来源:化学工程与装备, 2021, (09): 4-5.
DOI:10.19566/j.cnki.cn35-1285/tq.2021.09.002

摘要

本文使用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在传统的CH4/H2氛围下沉积金刚石膜,加入辅助气体氩气提升金刚石膜质量,探究低浓度氩气对金刚石膜的影响。

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