本发明公开了一种基于残差网络的光刻掩模优化方法,通过光刻逆向优化过程对残差网络进行训练,优化残差网络参数,随后将初始掩模图形输入网络,并将优化结果输入正向光刻模型,得到晶圆曝光图像。本发明方法通过对残差网络进行逆向优化训练,减少掩模优化迭代次数,大幅度提升深度网络准确率,避免了网络层数增加产生的梯度消失的问题,实现了对光刻生成图像的畸变校正。
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
