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摘要
介绍光干涉法测定彩涂板涂层厚度的原理以及应用情况，分析了影响检测结果的几个因素：涂层折射率、波长范围和膜厚范围设定。其中彩涂板涂层折射率是关键影响因素，且该参数不可测量，提出了具体解决方法。将光干涉法和目前检测方法，包括千分尺法、磁性—涡流仪法等，进行测量系统分析和比对试验，结果表明：光干涉法重复性和再现性优于目前方法，且与目前方法经统计检验无显著性差异，可以应用于彩涂板涂层厚度的检测。
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介绍光干涉法测定彩涂板涂层厚度的原理以及应用情况，分析了影响检测结果的几个因素：涂层折射率、波长范围和膜厚范围设定。其中彩涂板涂层折射率是关键影响因素，且该参数不可测量，提出了具体解决方法。将光干涉法和目前检测方法，包括千分尺法、磁性—涡流仪法等，进行测量系统分析和比对试验，结果表明：光干涉法重复性和再现性优于目前方法，且与目前方法经统计检验无显著性差异，可以应用于彩涂板涂层厚度的检测。
