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摘要
光刻胶产业化过程遇到的第一个技术屏障是实验室优化的材料组分和光刻工艺在工业生产线上不能再现图形，原因是实验室与工业生产线的曝光方式不同所致。本文以负性光敏聚酰亚胺树脂为例，配合以不同引发速率的引发剂，在相同的曝光能量下以步进式（高功率、短时间）和接触式（低功率、长时间）两种模式分别进行曝光实验。通过观察图形质量发现：步进式曝光匹配引发速率快的引发剂、接触式曝光配合引发速率慢的引发剂才能获得最佳的图形效果。结合自由基形成和扩散动力学诠释了不同曝光模式下的图形化规律，为实验室产品走向工业应用提供了组分修正的理论依据。
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