TiO_2薄膜的LPCVD法制备、表征及光催化性能

作者：梁建; 马淑芳; 赵君芙; 许并社

来源：材料导报, 2013, (08): 28-31+39.

• 低压化学气相沉积
• TiO2薄膜
• 表面形貌
• 光催化 low pressure chemical vapor deposition
• TiO2 film
• surface morphology
• photocatalysis

采用简单易行的低压化学气相沉积法(LPCVD)在GaAs、Si和玻璃衬底上沉积了TiO2薄膜,通过HRXRD、FESEM、EDS等手段对薄膜进行表征,结果表明基片对薄膜的晶相和微观形貌有明显的影响。薄膜的光催化实验结果显示,在可见光的照射下,分解甲基橙溶液时,砷化镓基和硅基TiO2薄膜表现出更强的光催化活性。并探讨了基片对薄膜晶相、微观形貌、光催化活性的影响。

• 单位
  太原理工大学