顺序离子束溅射沉积制备GdAlO_3单一晶相薄膜技术

作者：罗岚; 徐政; 刘庆峰; 刘茜

来源：同济大学学报(自然科学版), 2005, (03): 358-360+365.

• 离子束溅射
• 顺序沉积
• 两步热处理
• GdAlO3单一晶相薄膜 sputtering
• subsequent deposing
• two-step thermal processing
• GdAlO_3 crystal film

顺序沉积薄膜制备技术包括前驱薄膜制备和后期薄膜热处理技术 ,特别适合复杂组分的薄膜制备 .采用IM10 0离子束材料芯片沉积仪在MgO(10 0 )基片上顺序沉积Gd2 O3 和Al单层薄膜 ,经后续低温扩散和高温晶化两步热处理得到GdAlO3 单一晶相薄膜 .以X射线衍射 (XRD)、扫描电镜 (SEM )等手段 ,分析所得GdAlO3 薄膜的晶体结构和微观形貌 ,考察热处理过程对GdAlO3 薄膜生长过程及微观结构的影响 .实验结果表明顺序沉积薄膜制备技术具有化学计量比控制精确的优点 ,两步热处理可以得到结晶状况良好的单相结晶薄膜 .

• 单位
  材料科学与工程学院; 同济大学; 高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室; 中国科学院上海硅酸盐研究所