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摘要
基于界面迁移经典理论,建立了相应的有限单元法,对电场诱发内连导线中晶内微裂纹的形貌演化做了大量的数值模拟,主要探讨界面之间的化学势差对晶内微裂纹形貌演化和临界电场的影响。结果表明:在电场诱发界面迁移下晶内微裂纹的演化存在着扩展和收缩两种分叉趋势,且最终都会圆柱化。化学势差对晶内微裂纹演化的圆柱化有一定的抑制作用,且化学势差大于零时,促使微裂纹发生扩展;反之,则促使微裂纹发生收缩。
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单位南京航空航天大学; 机械结构力学及控制国家重点实验室
