脉冲偏压电弧离子镀Ti/TiN纳米多层薄膜的结构与硬度

作者：李谋; 李晓娜; 林国强; 张涛; 董闯; 闻立时

来源：材料热处理学报, 2005, 26(6): 49-52.

DOI：10.3969/j.issn.1009-6264.2005.06.012

• 脉冲偏压
• 电弧离子镀
• Ti/TiN纳米多层
• 硬质薄膜

采用脉冲偏压电弧离子镀设备在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层硬质薄膜,通过仅改变偏压幅值的方法进行对比实验.XRD分析和薄膜断截面SEM形貌显示出薄膜的纳米多层组织结构;硬度测试表明纳米多层薄膜硬度随脉冲偏压升高而升高,在-900V时超过同等条件制备的TiN单层薄膜,硬度高达34.1GPa;分析表明硬度的提高主要与脉冲偏压工艺对薄膜组织的改善有关;用脉冲偏压电弧离子镀可以制备纳米多层硬质薄膜,并且在工艺控制上相对简单.

• 单位
  北京师范大学; 大连理工大学