实验参数对金刚石薄膜内应力的影响研究

作者：袁红梅

来源：硬质合金, 2008, (04): 218-222.

• 金刚石薄膜
• 硬质合金
• 化学气相沉积法
• 涂层
• 工艺参数 diamond films
• cemented carbide
• CVD
• coating
• technique parameters

采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在硬质合金基体上制备金刚石薄膜涂层,采用SEM观察金刚石薄膜形貌,采用Raman光谱法分析制备的金刚石薄膜与基体的内应力。变化丝基间距、偏流、碳浓度等参数,通过测定拉曼光谱单一谱峰的位移Δω计算涂层的内应力,从而得到制备内应力较小的金刚石膜的工艺参数范围。

• 单位
  株洲硬质合金集团有限公司