磁控溅射功率对β-Ga2O3薄膜特性的影响

作者：冉景杨; 高灿灿; 马奎; 杨发顺^*

来源：原子与分子物理学报, 2022, 39(04): 96-100.

DOI：10.19855/j.1000-0364.2022.043001

• β-Ga2O3
• 射频磁控溅射
• 溅射功率
• 半峰宽
• 晶粒尺寸

近年来,第三代宽禁带半导体材料β-Ga2O3受到越来越多的关注,在材料制备、掺杂、刻蚀等方面都有广泛研究.射频磁控溅射是常用的β-Ga2O3薄膜制备方法之一,而磁控溅射法制膜往往需要进行退火处理以提高薄膜质量.本文研究溅射功率对射频磁控溅射在C面蓝宝石基底上制备得到的β-Ga2O3薄膜特性的影响. X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)表征结果表明,随着溅射功率的增大,半峰宽呈现先增大后减小再增大的趋势,晶粒尺寸变化与之相反.此外,通过积分球式分光光度计,研究了溅射功率对β-Ga2O3薄膜光学特性的影响.光学特性方面,薄膜吸光度随着波长的增加,先升高后下降、再升高再下降,最后吸收边在700 nm附近截止,不同溅射功率制备的薄膜吸收光谱都存在两个吸收峰.

• 单位
  贵州大学