纳米β-FeSi_2/a-Si多层膜室温光致发光分析

作者：牛华蕾; 李晓娜; 胡冰; 董闯; 姜辛

来源：Acta Physica Sinica, 2009, 58(06): 4117-4122.

DOI：10.3321/j.issn:1000-3290.2009.06.078

• β-FeSi2
• 磁控溅射
• XRD
• 光致发光光谱

采用射频磁控溅射的方法,在Si(100)基片上制备了纳米β-FeSi2/Si多层结构,利用X射线衍射、透射电子显微镜、光致发光光谱等表征技术,研究了β-FeSi2/Si多层结构的结构、成分和光致发光特性.研究结果表明:利用磁控溅射法得到的Fe/Si多层膜,室温下能够检测到β-FeSi2的1.53μm处光致发光信号;未退火时多层膜是(非晶的FeSi2+β-FeSi2颗粒)/非晶Si结构,退火后则是β-FeSi2颗粒/(晶体Si+非晶Si)结构;退火前后样品有相同的PL信号强度,说明非晶的FeSi2+β-FeSi2颗粒和β-FeSi2颗粒可以产生同样的发光性能.实验测出1.53μm处PL信号也进一步证明了非晶FeSi2的半导体性能.

• 单位
  大连理工大学