水稻耐光氧化特性的QTL定位

作者：姜华; 姜亮; 赵江红; 郭龙彪; 孙焕明; 薛大伟; 曾龙军; 曾大力; 梁国华; 钱前

来源：中国水稻科学, 2008, (01): 38-44.

DOI：10.16819/j.1001-7216.2008.01.007

• 水稻
• 光氧化
• 加倍单倍体群体
• 数量性状座位
• 耐性指数
• 敏感性指数 rice
• photooxidation
• doubled haploid population
• quantitative trait locus
• tolerance index
• sensitivity index

利用由127个株系组成的来源于籼稻品种窄叶青8号和粳稻品种京系17的加倍单倍体群体,以耐性指数和敏感性指数为指标,采用QTL Mapper 1.6统计软件进行水稻耐光氧化反应特性的QTL定位和上位性分析,共检测到控制耐性指数的1个加性效应QTL,位于第3染色体上;控制敏感性指数的加性效应QTL5个,分别位于第1、1、6、8和9染色体上。还检测到3对影响耐性指数的加性×加性上位性互作效应QTL和5对敏感性指数的上位性QTL。还对41个水稻材料进行了光氧化实验筛选。

• 单位
  扬州大学; 浙江大学; 水稻生物学国家重点实验室; 中国水稻研究所