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摘要
用670和800 A/m2的电流密度对4N金进行电解提纯,并利用X射线衍射(XRD)和电子背散射衍射(EBSD)技术对电沉积产物的底面和表面进行极图绘制和微观组织重构。结果表明,样品纯度均达到6N以上;EBSD与XRD所得织构结果基本一致。电沉积金的表面和底面均存在织构,较大的电流密度会弱化织构。受外延生长效应和过渡生长效应的影响,2样品与阴极基板接触的表面均存在{111}纤维织构,电沉积自由表面均存在{001}纤维织构,电流密度的变化导致2样品的织构也发生变化。随着电沉积过程的进行,晶粒尺寸长大。
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