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摘要
氧化锑锡因其固有的高可见光透过率、良好的红外屏蔽性能和导电性，可应用于节能建筑、光电器件以及军事隐身等领域，得到了广泛的研究。主要概述了氧化锑锡纳米材料及其薄膜制备技术的研究现状，介绍了沉淀法、溶胶-凝胶法、水热法/溶剂热法等纳米材料制备技术，以及喷雾热解法、脉冲激光沉积法、磁控溅射法和涂覆法等薄膜制备技术，分析了锑掺杂浓度、干燥方式、煅烧温度、氧气流量、薄膜厚度等工艺参数对氧化锑锡纳米材料及其薄膜的结构特征、光电性能的影响。介绍了氧化锑锡薄膜在光电、建筑、军事等领域的应用现状，总结了各种制备技术的优缺点，并就该领域存在的问题及未来的研究和应用方向进行了讨论和展望。
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