激光预处理技术及其应用

作者：赵元安; 胡国行; 刘晓凤; 李大伟; 朱美萍; 易葵; 邵建达

来源：光学精密工程, 2016, 24(12): 2938-2947.

• 激光预处理
• 激光与物质相互作用
• 高功率激光
• 激光损伤阈值
• 介质膜
• 磷酸二氢钾(KDP)晶体
• 高掺氘磷酸二氢钾(DKDP)晶体

回顾了国内在激光预处理技术研究方面取得的进展。综述了基于激光预处理技术提升基频介质膜、磷酸二氢钾/高掺氘磷酸二氢钾(KDP/DKDP)晶体等光学元件抗激光损伤性能的机理、效果和关键技术。针对高功率激光驱动器中关键光学元件激光负载能力的提高,建立了大口径光学元件激光预处理平台,实现了基频介质膜元件的激光预处理工程化作业。比较了纳秒和亚纳秒脉冲宽度激光对DKDP晶体损伤性能的影响。基于亚纳秒激光预处理后,纳秒激光辐照至14.4J/cm2(5ns)尚未出现"本征"损伤的实验结果,提出了用于DKDP晶体的亚纳秒激光预处理方案,并指出亚纳秒激光预处理技术将成为高功率激光三倍频晶体抗激光损伤性能达标的关键技术。

• 单位
  中国科学院上海光学精密机械研究所