台积电推出性能增强的7nm和5nm制造工艺

来源：智能建筑与智慧城市, 2019, (08): 9.

<正>近日,台积电(TSMC)推出了7nm深紫外DUV(N7)和5nm极紫外EUV(N5)制造工艺的性能增强版本。台积电全新N7P工艺采用与N7相同的设计规则,优化了前端(FEOL)和中端(MOL),可在相同功率下将性能提升7%,或者在相同的频率下降低10%的功耗。N5P工艺则