6H-SiC单晶紫外光催化抛光中光照方式和磨料的影响

作者：路家斌; 熊强; 阎秋生^*; 王鑫; 宾水明

来源：金刚石与磨料磨具工程, 2019, 39(03): 29-37.

DOI：10.13394/j.cnki.jgszz.2019.3.0006

• 紫外光催化辅助抛光
• 6H-SiC单晶
• 羟基自由基
• 光照方式
• 磨料

研究紫外光辅助催化抛光6H-SiC单晶。用分光光度法定性检测不同光催化反应时间下甲基橙颜色变化和羟基自由基(·OH)浓度,研究无光照、光照抛光盘、光照抛光液3种光照方式及金刚石、碳化硅、二氧化硅、二氧化钛、硅溶胶5种磨料对6H-SiC单晶抛光的影响。结果表明:随着光照时间增加,·OH浓度增加;在3种光照方式下,不同磨料的材料去除率(MRR)均呈现光照抛光液>光照抛光盘>无光照的规律,且光照抛光液时的MRR比无光照时的MRR提升了18%～58%。随磨料硬度降低,光催化辅助作用对MRR的提高幅度升高,即紫外光催化辅助作用越明显;金刚石、碳化硅、二氧化硅、硅溶胶4种磨料抛光后的表面粗糙度都随MRR的增大而减小,但二氧化钛磨料的则相反,原因是二氧化钛磨料同时兼作光催化剂,增强了SiC表面的化学反应速率,使其化学反应速率大于机械去除速率。

• 单位
  广东工业大学