氧化铝薄膜对硫钝化InP材料光学稳定性的影响

作者：田珊珊; 魏志鹏; 赵海峰; 高娴; 方铉; 唐吉龙; 楚学影; 方芳; 李金华; 王晓华; 李梅; 马晓辉

来源：材料导报, 2013, (24): 18-21.

• InP
• 光致发光
• 硫钝化
• 表面态密度
• Al2
• O3
• 薄膜 InP
• photoluminescence
• sulfur passivation
• surface state density
• Al2O3 films

利用原子层沉积法(ALD)在硫钝化后的n型InP表面沉积Al2O3薄膜进行二次钝化处理。通过光致发光(PL)测试和原子力显微镜(AFM)测试对样品的光学性质及表面形貌进行表征。硫钝化能够有效降低样品的表面态密度及无辐射复合几率,因此样品PL发光强度得到了极大提高。而样品表面的Al2O3可防止钝化层被氧化,尽管相对于沉积Al2O3薄膜前样品的光致发光强度有所降低,但样品的稳定性得到了改善,因此可进一步提高样品的发光性能。

• 单位
  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 发光学及应用国家重点实验室; 长春理工大学