偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

作者：严振; 方从富^*; 刘冲

来源：金刚石与磨料磨具工程, 2018, 38(04): 77-82.

DOI：10.13394/j.cnki.jgszz.2018.4.0015

• 研磨抛光
• 偏摆运动
• 轨迹非均匀性

为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律,建立运动轨迹模型,用轨迹非均匀性定量方法进行评价。结果表明:偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著,而偏摆角速度(取到非特殊值时)对轨迹非均匀性影响很小。当偏摆幅度和偏摆角度分别为15mm和30°左右时,轨迹非均匀性明显改善,其值可减小到0.058;而选择不当的偏心距和偏摆运动参数时,其值可达0.284。

• 单位
  自动化学院; 华侨大学