占空比对磁控溅射TiAlN薄膜性能影响的实验研究

作者：孙智慧; 钱锋; 肖玮; 张莉; 杨翰林

来源：真空, 2014, (06): 25-27.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2014.06.011

• 占空比
• 磁控溅射
• TiAlN
• 性能 duty cycle
• magnetron sputtering
• TiAlN
• characteristics

采用中频孪生磁控溅射技术,通过调整薄膜沉积过程中占空比大小,制备TiAlN薄膜。并对不同占空比条件下制备的TiAlN薄膜的表面形貌、膜厚、硬度与耐腐蚀性能进行测试与分析,得出占空比变化对磁控溅射TiAlN薄膜性能的影响。

• 单位
  哈尔滨商业大学; 深圳市天星达真空镀膜设备有限公司