瓦里安300XP离子注入机改造及功能开发

作者：张明亮; 韩国威; 刘庆; 李艳; 杨富华; 王晓东^*

来源：分析测试技术与仪器, 2020, 26(03): 151-159.

DOI：10.16495/j.1006-3757.2020.03.001

• 离子注入
• 浓硼掺杂
• 自停止腐蚀
• 微电子机械系统压力传感器
• 热电器件
• 纳米谐振子

在完全掌握瓦里安300XP离子注入机各部件的工作原理后,将原离子源供电系统中500 W电流源和450 W起弧电源升级为1 500 W电流源和1 500 W起弧电源,并集成到当前系统中.将现有不稳定的气体流量、离子源电源、分析器、源磁场和吸极高压塑料光纤隔离控制线路,升级成多通道光纤通讯光端机隔离控制系统.将一个10 cm进样终端改造成15 cm的样品卡盘,并开发了一套独立控制剂量监测系统.改造后,硼最大束流超过150μA,且可调节. 15 cm圆片的片内及片间电阻不均匀性小于3.5%.利用大束流硼离子注入制备浓硼掺杂单晶硅结构层,应用到微电子机械系统压力传感器、热电器件以及纳米谐振子器件中.

• 单位
  中国科学院半导体研究所; 中国科学院大学; 北京量子信息科学研究院